在线研讨会 | MEMS设计与开发:传感器和执行器设计
- 分类:新闻中心
- 作者:
- 来源:
- 发布时间:2024-02-19
- Visits:0
在线研讨会 | MEMS设计与开发:传感器和执行器设计
在线研讨会时间:
CMC, Canada host a IntelliSuite webinar on March 19, 1:00-2:00pm (GMT+00:00), 2024.
会议语言:英文
欢迎各位注册参加
在本次网络研讨会中,我们将详细探讨IntelliSuite软件如何在MEMS设计开发的各个环节所起的作用。从设计概念,到各种工艺菜单开发(PDK)、工艺流程仿真、多物理耦合分析、系统集成以及三维封装分析等。该软件不仅可以帮助在实际工艺之前进行工艺流程仿真,而且可以对模型进行网格划分,运用多物理分析,进行有限元模拟,使设计的器件更具有可制造性,并且能够进行器件性能分析。通过降阶模型仿真并将其链接到电路EDA工具中,使系统设计者能够更精确地设计控制和感测电路。开放式架构使Intellisuite可以帮助进行各种除了传统硅材料以外的其他材料传感器和执行器器件设计,如石英、InP、蓝宝石等。同时软件还允许进行非传统工艺模拟,如倾斜离子束蚀刻(IBE)、3D光刻、3D氧化、高阶晶面刻蚀等。
本次网络研讨会将由加拿大CMC Microsystems主持,CMC Microsystems成立于1984年,通过创建和共享先进的设计、制造和测试平台技术,从而降低技术使用的障碍,致力于加速先进技术的研究和创新。
在线研讨会 | MEMS设计与开发:传感器和执行器设计
[Summary]在线研讨会 | MEMS设计与开发:传感器和执行器设计
在线研讨会时间:
CMC, Canada host a IntelliSuite webinar on March 19, 1:00-2:00pm (GMT+00:00), 2024.
会议语言:英文
欢迎各位注册参加
在本次网络研讨会中,我们将详细探讨IntelliSuite软件如何在MEMS设计开发的各个环节所起的作用。从设计概念,到各种工艺菜单开发(PDK)、工艺流程仿真、多物理耦合分析、系统集成以及三维封装分析等。该软件不仅可以帮助在实际工艺之前进行工艺流程仿真,而且可以对模型进行网格划分,运用多物理分析,进行有限元模拟,使设计的器件更具有可制造性,并且能够进行器件性能分析。通过降阶模型仿真并将其链接到电路EDA工具中,使系统设计者能够更精确地设计控制和感测电路。开放式架构使Intellisuite可以帮助进行各种除了传统硅材料以外的其他材料传感器和执行器器件设计,如石英、InP、蓝宝石等。同时软件还允许进行非传统工艺模拟,如倾斜离子束蚀刻(IBE)、3D光刻、3D氧化、高阶晶面刻蚀等。
本次网络研讨会将由加拿大CMC Microsystems主持,CMC Microsystems成立于1984年,通过创建和共享先进的设计、制造和测试平台技术,从而降低技术使用的障碍,致力于加速先进技术的研究和创新。
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- 发布时间:2024-02-19
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研讨会时间:
CMC, Canada host a IntelliSuite webinar on March 19, 1:00-2:00pm (GMT+00:00), 2024.
会议语言:英文
欢迎各位免费注册参加
直接点击链接:Sensor and Actuator Design Using IntelliSuite – CMC Microsystems
在本次网络研讨会中,我们将详细探讨IntelliSuite软件如何在MEMS设计开发的各个环节所起的作用。从设计概念,到各种工艺菜单开发(PDK)、工艺流程仿真、多物理耦合分析、系统集成以及三维封装分析等。该软件不仅可以帮助在实际工艺之前进行工艺流程仿真,而且可以对模型进行网格划分,运用多物理分析,进行有限元模拟,使设计的器件更具有可制造性,并且能够进行器件性能分析。通过降阶模型仿真并将其链接到电路EDA工具中,使系统设计者能够更精确地设计控制和感测电路。开放式架构使Intellisuite可以帮助进行各种除了传统硅材料以外的其他材料传感器和执行器器件设计,如石英、InP、蓝宝石等。同时软件还允许进行非传统工艺模拟,如倾斜离子束蚀刻(IBE)、3D光刻、3D氧化、高阶晶面刻蚀等。
本次网络研讨会将由加拿大CMC Microsystems主持,CMC Microsystems成立于1984年,通过创建和共享先进的设计、制造和测试平台技术,从而降低技术使用的障碍,致力于加速先进技术的研究和创新。
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